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離子鍍膜機(jī)常見的離子鍍類型及特點(diǎn)

   真空離子鍍膜機(jī)是真空鍍膜設(shè)備的一種,它指的是一類需要在一定真空環(huán)境下進(jìn)行的鍍膜。離子鍍膜機(jī)的原理和真空鍍膜機(jī)的類似,這里就不多加贅述了。今天,給大家簡(jiǎn)單介紹下離子鍍膜機(jī)較常使用的離子鍍的類型及特點(diǎn)。
    1、電阻加熱或電子束加熱蒸發(fā)源
    ①直流放電二極型
    特點(diǎn):繞射性好,附著性好,基板溫度易上升,膜結(jié)構(gòu)及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板。
    ②多陰極型
    特點(diǎn):采用低能電子離化效率高,膜層質(zhì)量可控制。
    ③射頻放電離子鍍
    特點(diǎn):不純氣體少,成膜好,化合物成膜更好。匹配較困難。
    2、電子束加熱蒸發(fā)源
    ①活性反應(yīng)蒸鍍
    特點(diǎn):蒸鍍效率高,能獲得三氧化二鋁、TiN等薄膜。
    ②增強(qiáng)的ARE型
    特點(diǎn):易離化,基板所需功率和放電功率能獨(dú)立調(diào)節(jié),膜層質(zhì)量、厚度都容易控制。
    ③低壓等離子鍍
    特點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單能獲得TiC、TiN等化合物鍍層。
    ④電場(chǎng)蒸發(fā)
    特點(diǎn):帶電場(chǎng)的真空蒸鍍,鍍層質(zhì)量好。
    3、等離子電子束
    空心陰極放電離子鍍
    特點(diǎn):離比效率高,電子束斑較大,金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜都能鍍。
    CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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