真空鍍膜技術是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，整個鍍膜過程是在真空鍍膜機的真空室內完成，在真空室內材料的原理從加熱源離析出來打倒被鍍物理的表面，此項技術最初是應用于生產光學鏡片，如航海中望遠鏡鏡片等，之后延伸到其他的功能鍍膜，如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜等等。
在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般來說真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的定義指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面，屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故真空鍍膜也稱真空金屬化。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其是一項極具潛力的技術。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。
CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機
