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磁控濺射鍍膜技術介紹

      磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機,其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。今天我們就來為大家說說磁控濺射鍍膜技術。

磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下:

陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。

      以上工藝技術就是以磁控濺射鍍膜設備為基礎,選用合適的靶材和濺射工藝,制備出超硬的耐磨鍍層,可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性;同時,利用NCVM光學膜結構設計,設計出各層不同折射率材料,可以調配出任意顏色,使得陶瓷不僅硬度高、強度高,具備外觀件時尚、美觀的特點,而且不會屏蔽電磁信號。

      磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝,能夠實現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理,在保證陶瓷強度和硬度的同時,也能夠提升其美觀性和藝術性,更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下,通過相應的物理化學手段來對金屬材料進行轉換,以粒子的方式吸附在材料表面,形成鍍膜層,相比較普通真空電鍍,NCVM的技術含量更高,加工流程也更加復雜。

      磁控濺射鍍超硬膜,結合NCVM光學鍍膜技術,其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點,已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展,NCVM鍍膜憑借本身優越的性能,在真空電鍍技術領域脫穎而出,成為了電子消費品生產中的一項核心技術,在保證良好處理效果的同時,也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害,對其環境污染問題進行解決。


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