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磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)發(fā)展

   隨著目前工業(yè)的需求和表面技術(shù)在生活中的運(yùn)用,使得磁控濺射鍍膜設(shè)備在工業(yè)中使用的越來越廣泛。這也使得我們的表面鍍膜技術(shù)獲得高速的發(fā)展。近年來磁控艱澀和高速濺射、自濺射等等相關(guān)技術(shù)成為目前磁控艱澀鍍膜發(fā)展的新領(lǐng)域。

真空鍍膜的兩種形式

    我們知道高速濺射能夠得到大約幾個μm/min 的高速率沉積,可以縮短濺射鍍膜的時間,提高工業(yè)生產(chǎn)的效率;有可能替代目前對環(huán)境有污染的電鍍工藝。當(dāng)濺射率非常高,以至于在完全沒有惰性氣體的情況下也能維持放電,即是僅用離化的被濺射材料的蒸汽來維持放電,這種磁控濺射被稱為自濺射。

    被濺射材料的離子化以及減少甚至取消惰性氣體,會明顯地影響薄膜形成的機(jī)制,加強(qiáng)沉積薄膜過程中合金化和化合物形成中的化學(xué)反應(yīng)。由此可能制備出新的薄膜材料,發(fā)展新的濺射技術(shù),例如在深孔底部自濺射沉積薄膜。

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)(真空電鍍機(jī)系列)

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)(真空電鍍機(jī)系列)

    磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展由于其顯著的效果,成為目前工業(yè)鍍膜的技術(shù)之一,是工業(yè)發(fā)展中不可缺少的一種技術(shù)。


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