磁控濺射鍍膜時一種使用物理氣象沉積的一種設備，其不同的濺射方式有著不同的區(qū)別。
磁控濺射鍍膜設備濺射分析表：
種 類 | 典型工藝參數 |
二極濺射 | dc:1～7kv;0.15～1.5ma/cm2；rf：0.31～10kv;1～10w/cm2，真空鍍1～10pa |
三極或四極濺射 | dc:0～2kv;rf：0～1kv;真空鍍6×10-2～1×10-1pa |
磁控濺射 | dc:0.2～1kv;3～30w/cm2；真空鍍：10-2～10-3pa |
射頻濺射 | rf:0.3～10kv;0～12kv；頻率：13.56mhz；真空鍍1～10-1pa |
離子束濺射 | 采用直流，真空鍍：10-3pa |
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