離子鍍膜機(jī)，是一種需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜的儀器，離子鍍膜技術(shù)（離子鍍）是美國Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先提出的，1972年，Bunshah提出了活性反應(yīng)蒸鍍法。離子鍍膜技術(shù)現(xiàn)已在航空業(yè)、鐘表行業(yè)、裝飾、沖孔沖模、高速鋼刀具上運(yùn)用。
    多弧離子鍍是種比較好的鍍膜技術(shù)，在真空蒸發(fā)和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，相應(yīng)的儀器就是馳誠CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)。它的優(yōu)點(diǎn)可概括成以下幾點(diǎn)：
    1、金屬離化率高；
    2、一弧多用；
    3、沉積速度快，繞鍍性好；
    4、膜的附著力高。
    除此之外，可任意設(shè)置鍍膜室適當(dāng)?shù)奈恢茫部刹捎枚鄠€(gè)電弧蒸發(fā)源；簡化基片轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等。

 離子鍍膜機(jī)的工作原理

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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