CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

腔體結構：立式前開門，臥式前開門。

材質用料：腔體材質為SUS304不銹鋼或碳鋼

真空系統：擴散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機械泵+維持泵（另有深冷泵系統可供選擇）

濺射靶材：中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等

磁控電源：可配備直流或中頻磁控濺射電源

轉動系統：變頻調速，公自轉結合，可根據客戶產品和要求設計

膜層結構：單層膜、多層膜

氣體控制：氣體流量控制儀集成觸控操作控制

人機界面：PLC智能控制+全彩HMI觸摸屏

操作方式：邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式

智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現全自動控制

報警及保護：異常情況進行報警，并執行相應保護措施。

其他技術參數：

極限真空：5.0×10-4Pa

抽氣速率：5.0*10-2≤5min

水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa；

備注：

一般規格：

Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，

Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm

真空室尺寸或設備配置可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

高級裝飾膜層鍍膜，塑膠制品（塑料餐具、高級開關面板等），五金產品（鏡架、汽車輪轂等），水晶玻璃，手機殼，電子產品等產品鍍膜。